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中國電科:國產(chǎn)碳化硅器件和設(shè)備取得突破

瀏覽: 作者: 來源: 時(shí)間:2023-04-19 分類:公司新聞

近日中國電科公布一系列成果,顯示在國產(chǎn)碳化硅(SiC)設(shè)備及器件上取得突破。

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圖:中電科55所生產(chǎn)線

4月17日,中國電科宣布旗下55所與一汽聯(lián)合研發(fā)的首款750V碳化硅功率芯片完成流片,首款全國產(chǎn)1200V塑封2in1碳化硅功率模塊完成A樣件試制。

報(bào)道稱,750V碳化硅功率芯片技術(shù)達(dá)到國際先進(jìn)水平,目前已正式進(jìn)入產(chǎn)品級(jí)測(cè)試階段。

在2in1碳化硅功率模塊項(xiàng)目中,雙方技術(shù)團(tuán)隊(duì)圍繞新結(jié)構(gòu)、新工藝、新材料開展聯(lián)合攻關(guān),實(shí)現(xiàn)芯片襯底與外延材料制備、芯片晶圓設(shè)計(jì)與生產(chǎn)、封裝結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)、塑封工藝開發(fā)與模塊試制等關(guān)鍵環(huán)節(jié)全流程自主創(chuàng)新。

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???圖:中電科SiC MOSFET產(chǎn)線(CCTV)???

據(jù)CCTV報(bào)道,55所此前已在國內(nèi)率先突破了6英寸碳化硅MOSFET批產(chǎn)技術(shù),碳化硅MOSFET器件在新能源汽車上批量應(yīng)用,裝車量達(dá)百萬輛,處于國內(nèi)領(lǐng)先地位,5G基站用氮化鎵功率管和高線性二極管等系列產(chǎn)品性能及可靠性國內(nèi)領(lǐng)先。

同時(shí),在SiC定制化和研發(fā)難度較高的設(shè)備端,中國電科48所研制的碳化硅外延爐出貨量同比大幅增長。

據(jù)悉,由于碳化硅材料高熔點(diǎn)、高密度、高硬度的特性,使芯片具備了耐高壓、耐高溫、低損耗等優(yōu)越性能,碳化硅外延生長爐是晶圓制造環(huán)節(jié)的專用核心裝備。

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???圖:中電科48所SiC外延生長設(shè)備???

碳化硅外延生長爐,主要用于在碳化硅晶圓襯底上生長同質(zhì)外延材料,每一顆碳化硅芯片都是基于外延層制造的結(jié)晶。48所技術(shù)專家表示,碳化硅外延生長爐是承接襯底和芯片制造的關(guān)鍵環(huán)節(jié),直接影響芯片的等級(jí)和良率

早期國內(nèi)碳化硅外延片研究和生產(chǎn)幾乎全部依賴進(jìn)口,48所通過自主研發(fā),研制出完全對(duì)標(biāo)國外設(shè)備性能的6英寸碳化硅外延爐,經(jīng)過用戶上線使用驗(yàn)證,設(shè)備的技術(shù)指標(biāo)均達(dá)到行業(yè)應(yīng)用的主流水平,有力支撐了國產(chǎn)碳化硅芯片產(chǎn)業(yè)的大規(guī)模快速發(fā)展。

據(jù)報(bào)道,隨著國家第三代半導(dǎo)體技術(shù)創(chuàng)新中心(湖南)的實(shí)體化運(yùn)行,48所以外延、注入、氧化、激活等專用裝備為核心,結(jié)合立式擴(kuò)散爐、PVD等通用設(shè)備和半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)線建線經(jīng)驗(yàn),實(shí)現(xiàn)國內(nèi)唯一從碳化硅外延到芯片核心設(shè)備的全覆蓋,進(jìn)一步助力國產(chǎn)碳化硅芯片制造“換道超車”。

文章來源:芯片大師